新華社北京12月26日電（記者班娟娟　實習記者汪子旭）經濟參考報12月26日刊發題為《我國將構建知識產權高質量發展框架體系》的報道。文章稱，12月25日，在由中國國家知識產權局和世界知識產權組織共同主辦的第二十屆中國專利獎頒獎大會上，國家知識產權局局長申長雨表示，2019年，將進一步推動知識產權高質量發展，加快形成相關指標體系、政策體系、統計體系和考核體系。進一步完善相關法律制度，做好專利法修改，引入侵權懲罰性賠償制度。

申長雨表示，未來將督促地方完善專利政策，突出質量導向，淡化數量情結，加快形成高質量發展的指標體系、政策體系、統計體系和考核體系，為高質量發展提供良好制度保障。大力培育高價值核心專利，積極鼓勵企業、高校和科研院所加強關鍵前沿技術知識產權創造，形成更多高價值專利組合。同時，堅決遏制低質量申請，嚴厲打擊非正常申請，切實營造高質量發展的良好環境。

申長雨還透露，2019年將進一步完善相關法律制度，積極配合做好專利法修改，引入侵權懲罰性賠償制度，大幅提高侵權違法成本，從根本上解決專利領域長期存在的舉證難、周期長、成本高、賠償低等問題。同步推進修訂《專利法實施細則》和《專利審查指南》。（完）